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丹普超高真空磁控濺射鍍膜機丹普超高真空磁控濺射鍍膜機丹普超高真空磁控濺射鍍膜機

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  • 丹普超高真空磁控濺射鍍膜機
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  • 詳細介紹
1、極限真空度 5.0*10-5Pa
2、無盲點鍍膜技術
3、支點自動切換技術
4、雙真空室
5、內外表面鍍制TiN-GIMS
6、配置矩形和柱狀磁控濺射靶
7、配置氣體離子源
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