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  • 詳細介紹
AS510DMTXB是專為硬質合金刀片等小尺寸產品設計的一款PVD涂層設備,運用了GAMS多元涂層技術,GAMS運用了包括:GISETCH®:氣體離子刻蝕及輔助沉積技術、4G-CAE®:第四代陰極電弧技術、UBMS非平衡磁控濺射技術和Smart Shutter智能源擋板技術,可以鍍制SINOX4系列五元合金(Al、Ti、Cr、Me、Si)氮氧化物涂層,技術規格如下:

真空室尺寸 Ø800mm * H700mm
均勻可鍍區 Ø500mm * H300mm
極限真空度 3.0*E-4Pa
壓升率 0.2Pa/hr
冷卻水 6ton/hr
占據空間 4.5*4.0*3.5
抽氣系統 磁懸浮渦輪分子泵抽真空系統
真空檢測 復合真空計+薄膜真空規
工藝氣體MFC 4路
轉架 可移出式下轉架(4軸、5軸、6軸、8軸任選)
4G-CAE®第四代陰極電弧系統 8套(4列)
UBMS非平衡磁控濺射系統 2套
GISETCH®氣體離子刻蝕及輔助沉積系統 1套
偏壓電源 1套
Smart智能源擋板 1套
加熱系統 550度,3根熱電偶監測
冷卻水循環系統 配日本SMC水流開關,智能控制
自動控制 IPC+PLC全自動控制
裝載量 1800片/爐(以Φ20*6mm規格刀片為例)
生產運行周期 SINX4系列和SINOX4系列涂層(3μm),5.5小時/爐

 
索取離子鍍膜機報價及行業解決方案:huzhongjun@naura.com

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